摘要
极端非线性光学是指光场强度逼近原子内部库伦场强度条件下的非线性光学效应，其特征是高度受控的光电离过程和突破线性衍射规律的反常光传输行为。近年来，人们发现极端非线性光学在材料加工处理中有巨大应用潜力，并逐步发展为一种新的光刻手段。这也是2018年诺贝尔物理学奖的重要授奖因素之一。由此提出的超限制造技术旨在推动极端非线性光学在微化工芯片和光子芯片领域的应用。
报告人简介
程亚，1993年复旦大学获得学士学位，1998年上海光机所获得博士学位，现为华东师范大学教授、上海光机所研究员。从事超快非线性光学与微纳制造研究，发表论文200余篇，引用万余次，H因子51。国际学术会议大会和邀请报告100余次，获得国家杰出青年科学基金资助、先后担任国家973计划项目、重点研发计划项目首席科学家。出版中文专著1本，独著、合著与合编英文专著6本。
